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全息實驗-基本型_XGZ-5

簡要描述:全息照相是利用相干光疊加而發(fā)生干涉的原理,記錄參考光波與原物光波(從物體反射的光波)在記錄介質上的干涉條紋。這種干涉條紋記錄了物光波的振幅信息、位相信息。 本實驗采用光致聚合物干版作為記錄介質,半導體激光器作為光源,可以做反射式和透射式全息圖,反射式全息圖(可以白光再現(xiàn))。明室環(huán)境下即可成功操作,不需要配備專門的暗室。沖洗非常方便,經電吹風快速吹干水分,即可在白光下現(xiàn)出清晰的三維圖像,易維

  • 產品型號:XGZ-5
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-10-08
  • 訪  問  量:907
詳情介紹

 

簡介
   全息照相是利用相干光疊加而發(fā)生干涉的原理,記錄參考光波與原物光波(從物體反射的光波)在記錄介質上的干涉條紋。這種干涉條紋記錄了物光波的振幅信息、位相信息。
   本實驗采用光致聚合物干版作為記錄介質,半導體激光器作為光源,可以做反射式和透射式全息圖,反射式全息圖(可以白光再現(xiàn))。明室環(huán)境下即可成功操作,不需要配備專門的暗室。沖洗非常方便,經電吹風快速吹干水分,即可在白光下現(xiàn)出清晰的三維圖像,易維護,尤其適合教學實驗。

特點
明室操作,白光再現(xiàn);
光致聚合物干版,彩虹全息;
沖洗方便,快速顯影;
40mW半導體激光器;
電子式曝光定時器,數字顯示,遙控、手動隨意選擇。
 
可開實驗
1.         反射式全息照相
2.         透射式全息照相
 
技術參數
半導體激光器:650nm、帶寬<0.2nm、功率>30mW
曝光定時器:0.1-999.9s,B門、T門、定時、常開四種模式選擇
全息干板:紅敏光致聚合物干版
光學平臺(選配):平面粗糙度≤0.8μm,平面度≤0.05mm/m2,600×600×60mm
 
成套性
半導體激光器、曝光定時器、反射鏡組件、透鏡組件、全息干板,全息照相物體、光學平臺(選配)等

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